大功率无液滴高光弧PVD真空设备与先进工模具涂层解决方案

纳狮Spark高光弧技术，广泛用于3C高光刀涂层应用。相较于传统的过虑弧多弧离子镀，甚至最新的Hipims高频磁控溅射，液滴明显及膜缺陷显著减少。

01 常见PVD设备工艺对比

 

纳狮Spark无液滴技术再创新突破： 以TiN 涂层为例，厚度2.5um，沉积速率0.5um/h，Ra＜0.05um，硬度34Gpa.

多弧离子镀	磁控溅射	纳狮Spark高光弧
靶材材料受限 表面粗糙度高＞Ra0.2 离化率高＞60% 沉积速率高＞1um/h	溅射材料丰富 表面粗糙度低Ra0.05 离化率低20%-40% 沉积速率低0.35um/h	溅射材料丰富 表面粗糙度低<Ra0.05 离化率低＞90% 沉积速率低0.5um/h

 

02 高光弧工艺特点

• 高光弧涂层：镀膜更硬更少液滴
  
• 高光弧涂层：减小表面粗糙度可减小表面润湿性，起到抗沾粘效果
  
• 高光弧涂层：较少涂层液滴，缺陷更少，涂层更致密
  

03 纳狮高光弧真空镀膜设备

纳狮PVD、PECVD、DLC工艺真空镀膜设备，适用于刀具涂层、模具涂层、零件涂层及医疗生物涂层。提供整厂软硬件交钥匙输出方案，并提供“陪跑”服务，真正帮助客户讲真空镀膜哦设备用好用得起来。

04 高光弧刀具Ta-c涂层应用

使用Ta-C涂层可以有效提升刀具寿命，降低加工成本，提升产品质量。